7月4日，第32期“季华大讲堂”系列专题讲座在季华实验室举行。tcl华星光电技术有限公司胡晓斌博士受邀分享了题为《fpd光刻掩膜版技术》的学术报告。实验室相关研究方向的科研人员参加了此次报告会。
本报告从显示基本原理出发，首先对显示装备工艺流程进行简要介绍，继而对显示装备用掩膜版的关键规格、主要分类、技术原理、制备及检测关键工艺进行说明，并结合显示装备基本结构及工作方式对掩膜版的工业使用进行简要对比分析，最后对掩膜版行业内供应现状进行简要介绍。大尺寸高精度的显示装备掩膜版是半导体显示制造业的核心材料。光刻版与显示板制造装备搭配决定了产线的极限能力，也直接划定了显示产品的规格以及成本的边界，对显示技术的发展有着至关重要的作用。
季华实验室将积极围绕显示装备行业展开科研技术攻关，旨在推动显示制造装备技术升级，力争培育新的千亿产业集群，联合国家新型显示技术创新中心及国内显示领域优势研究单位和产业链上下游企业，推动显示领域的产业升级。此外，季华实验室还将重点攻克显示制造关键装备的核心技术，建设具有量产能力的显示制造装备应用验证线，实现显示制造装备上线验证及自主开发能力的提升。
“季华大讲堂”将继续邀请国内外专家学者开展专题讲座，为行业内外及实验室科研人员提供学习与交流的平台。